Substrate представляет инновационную литографию для конкуренции с ASML

Substrate представил рентгеновскую литографию для конкуренции с ASML и TSMC TrendForce Инструменты для EUV литографии от ASML играют ключевую роль в производстве передовых чипов Такие техногиганты как TSMC Samsung и Intel вкладывают значительные средства в их приобретение Американский стартап Substrate намерен бросить вызов доминированию голландцев

Питер Тиль вложил 100млн в стартап своего стипендиата который оценен в 1млрд Стартап Substrate основан Джеймсом Праудом в 2022 году Команда 50 специалистов из AMD Apple Qualcomm TSMC и национальных лабораторий США включая соавторов EUV литографии Компания разрабатывает альтернативу доминирующей EUV литографии которая производит только ASML Их подход использует X лучи что позволяет Печатать микросхемы с разрешением эквивалентным 2 нм техпроцессу и ниже без многоэтапной многослойной печати Сократить размер оборудования до размеров автомобиля против огромных машин ASML за 400 млн Уменьшить стоимость производства в 2 раза ускорить циклы и снизить энергозатраты Прототипы уже протестированы в национальных лабораториях США 1 е коммерческие чипы ожидаются к 2028 году с планом создания собственной экосистемы производителей Технология была презентована вице президенту США Джей Ди Вэнсу в марте 2025 го Ключевые инвесторы которые только что вложили 100 млн в раунд Series А с оценкой 1 млрд 1 Founders Fund фонд Питера Тиля 2 General Catalyst топовый VC инвестировавший в Airbnb и Stripe они с ними с 2022 года 3 In Q Tel некоммерческая организация связанная с ЦРУ Allen Co инвестбанкиры работавшие с Баффетом и тд

Американская компания Substrate получила значительную поддержку от властей и инвесторов для развития полупроводникового производства в США Их технологии могут позволить выпускать самые дешевые и технологически продвинутые чипы Ожидается что через пару лет США смогут конкурировать с лидерами такими как ASML и TSMC производствомикросхем Подробнее

Американский стартап бросает вызов ASML Компания Substrate разработала оборудование для производства чипов которая использует ускорители частиц в качестве источников света для литографии По информации Bloomberg компания утверждает что она решила одну из самых сложных проблем технологии Substrate стремится конкурировать с ASML чье оборудование в настоящее время является единственным вариантом для создания передовых чипов Главная цель состоит в том чтобы иметь возможность производить лучшие пластины по самой низкой цене в больших объемах в Соединенных Штатах сказал основатель и главный исполнительный директор Substrate Джеймс Прауд в интервью в офисе компании в Сан Франциско Многие люди в отрасли чувствуют что это невозможно сделать сказал Прауд Но я думаю что история говорит вам что это неверно Стартап не раскрывает подробностей по конкурентным причинам его машина использует ускоритель частиц для создания источника света из рентгеновских лучей с более короткой длиной волны что по словам Прауда позволяет создавать более узкие пучки В качестве подтверждения своей разработки Substrate предоставила снимки образцов пластин с 12 нм дорожками не хуже чем можно было изготовить на самом новейшем литографическом сканере ASML с наилучшей числовой апертурой Утверждается что это вышло дешевле проще и на доступном для производства в США оборудовании Подробнее russianelectronics ru amerikanskij startap brosaet asml литография производствоэлектроники

Американский стартап конкурирующий с ASML привлекает финансирование Стартап Substrate из Сан Франциско привлёк более 100 млн инвестиций от Founders Fund Питера Тиля Peter Thiel а также General Catalyst и Valor Equity Partners Предыдущий раунд финансирования завершённый в 2024 году оценил компанию более чем в 1 млрд Компанию основали в 2022 году братья Джеймс и Оливер Прауды James Oliver Proud в команду вошли инженеры из TSMC AMD Google Qualcomm Applied Materials и нацлабораторий США Стартап 3 года разрабатывал свою технологию в секрете и теперь намерен бросить вызов гигантам TSMC и ASML предложив новый способ производства микрочипов с использованием ускорителей частиц как источников рентгеновского излучения для литографии Технология по утверждению Джеймса Прауда уже продемонстрирована в национальных лабораториях США и обеспечивает разрешение сопоставимое с новыми системами ASML High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet NA EUV экстремальное ультрафиолетовое излучение с высокой числовой апертурой решение ASML значительно повышающее возможности детализации EUV печати то есть позволит выпускать чипы по техпроцессу 2 нм План компании снизить себестоимость передовых кремниевых пластин с 100 тыс до примерно 10 тыс к 2030 году и начать производство к 2028 году Для этого Substrate намерена построить собственные фабрики что потребует десятков а возможно сотен миллиардов долларов инвестиций В России также создаётся синхротрон который позволяет получить подобное излучение кольцевой источник фотонов СКИФ под Новосибирском www ft com content 2496edef 4f1b 47aa 877d 9c01271faaa1