В России разработана первая установка для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах

В России создали новую установку для производства микроэлектроники В Научно-исследовательском институте точного машиностроения НИИТМ, входит в группу компаний «Элемент» создали опытный образец первой в стране установки для плазмохимического осаждения ПХО на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. «ПХО — это один из базовых процессов при производстве микросхем. До недавнего времени такие машины закупались за рубежом. Отечественные же установки помогут в укреплении технологического суверенитета страны. Кроме того, для государств, которые заинтересованы в развитии микроэлектроники, российские производители могут стать альтернативными поставщиками оборудования», — рассказали разработчики.

В России создали первую в стране установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Это один из ключевых процессов при производстве микросхем. Разработка укрепляет технологический суверенитет страны и открывает возможности для высокотехнологичного экспорта, рассказали специалисты. Оборудование основано на модульном принципе, что дает возможность гибко адаптировать его под конкретные производства. Опытный образец находится на этапе заключительных доработок, летом пройдут тестовые испытания, после чего планируют запустить серийное производство.

В РОССИИ СОЗДАЛИ НОВУЮ УСТАНОВКУ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ЧИПОВ В Научно-исследовательском институте точного машиностроения разработали установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Это один из ключевых процессов при производстве микросхем. Прежде для выполнения этой операции использовали импортное оборудование, а отечественные машины, в большинстве своем, были рассчитаны на технологические процессы, ориентированные на 200-миллиметровые кремниевые подложки. Оборудование основано на модульном принципе, что дает возможность гибко адаптировать его под конкретные производства. Опытный образец находится на этапе заключительных доработок, летом пройдут тестовые испытания, после чего планируют запустить серийное производство. Как сообщили специалисты, пластины диаметром 300 мм — это стандарт, по которому в настоящее время производят более 90% микросхем в мире. Такой размер позволяет значительно увеличить количество чипов, производимых на одной подложке. Благодаря этому снижается их стоимость для потребителя. Создание нового комплекса началось в конце 2021 года. В процессе разработки ученые-инженеры изготовили опытный образец кластерной структуры, который состоит из четырех различных технологических модулей, объединенных общей роботизированной транспортной системой для перемещения пластин. Источник: Известия #времявперёд!

В России создали плазмохимическую установку для кремниевых пластин на 300 мм Команда инженеров Научно-исследовательского института точного машиностроения НИИТМ создала первую в России установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Прежде для выполнения этой ключевой в производстве микросхем операции использовали импортное оборудование, а отечественные машины, в большинстве своем, были рассчитаны на технологические процессы, ориентированные на 200-миллиметровые кремниевые подложки. «Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах», — рассказал «Известиям» начальник отдела перспективных разработок НИИТМ Георгий Ерицян. , VK и ОК и читайте новости на нашем сайте

О проверках "дроповодов" и криптообменников и не только - на tokengram.ru

В Зеленограде создали новую установку для производства чипов. В зеленоградском НИИТМ ГК "Элемент" разработали первую отечественную установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм - одного из ключевых процессов при производстве микросхем. Сейчас опытный образец проходит заключительные доработки, летом его испытают, а после запустят в серийное производство. В НИИТМ говорят, что разработанные и апробированные технологии применимы как для существующих проектных норм, так и для перспективных, в том числе для интегральных схем с топологией 28 нанометров. И создание установки можно назвать еще одним шагом к полному циклу производства микроэлектроники в России. Оборудование модульное, а потому его можно адаптировать под конкретные производства и менять конфигурацию для работы с пластинами 200 мм. Это позволяет тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых техпроцессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах. ™ МашТех

Создана установка плазмохимического осаждения на 300-мм кремниевых пластинах Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде Москва , завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость. Проект по созданию установки стартовал в 2021 году, и менее чем за четыре года специалистам удалось разработать и внедрить действующий образец. Новое оборудование поддерживае... Читать далее: - подпишись Кстати, а вы хотите чтобы на этом канале появились новости о вашей компании? Это бесплатно! Подробнее здесь: