АО «Микрон» завершило разработку фотолитографа с разрешением 350 нм, эксперты сомневаются в его отечественности

⏰ Участники рынка усомнились в отечественности российского литографа АО «Микрон» заявило о завершении разработки фотолитографа с нормами 350 нм. Эксперты сомневаются в том, что оборудование можно назвать полностью российским. Разработка фотолитографа на 350 нм завершена, «Микрон» участвовал в госкомиссии по его приемке, сообщили Mashnews в АО «Микрон» 12 марта. Фотолитограф создавался в сотрудничестве «Микрона» с Зеленоградским нанотехнологическим центром. Соглашение об этом они подписали осенью 2024 года. Соучредитель Ассоциации производителей компьютеров и периферийного оборудования 26/20 Максим Горшенин в беседе с Mashnews усомнился в том, что фотолитограф 350 нм можно считать полностью российским — в его разработке участвовали и специалисты из Белоруссии. Это может нести ряд рисков для технологического суверенитета России. Читать эксклюзив подробнее… #mashnews_эксклюзив

Ключевое оборудование для производства микросхем — фотолитограф с разрешением 350 нанометров создан в Москве. Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. В мире менее 10 стран, способных создавать это оборудование, теперь в их числе — Россия.

Собянин сообщил о создании в Москве уникального оборудования для микросхем Компания — резидент особой экономической зоны «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. «В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — рассказал мэр Москвы Сергей Собянин. Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.

Зеленоградский центр микроэлектроники Группы «РОСНАНО» завершил ОКР по созданию первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нм Литограф - ключевой элемент при производстве микросхем для применения в автомобильной, аэрокосмической отраслях, промышленной автоматике, потребительской электронике и других. Особенности установки: Существенно увеличена площадь рабочего поля — 22х22 мм vs 3,2х3,2 мм На ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин – 200 мм vs 150 мм Впервые использован твердотельный лазер – более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром В мировой практике для производства таких литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа . В приёмочной комиссии приняли участие представители отраслевых организаций и крупных микроэлектронных производств. Белорусский ПЛАНАР был привлечен в качестве соисполнителя для реализации работ как ключевая организация с профильным научно-техническим заделом всего постсоветского пространства. В настоящее время ведутся работы по созданию установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Завершение работ запланировано на 2026 год.

Умный помощник, который всегда под рукой

Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан в партнёрстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере. Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. На фотолитограф уже есть заказчик. Ведётся адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя. Также сейчас идёт разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.

Прорыв в российской микроэлектронике! Создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм. Это ключевое оборудование для производства микросхем, до этого доступное лишь немногим странам. Шаг к технологической независимости! #Микроэлектроника #Фотолитограф #Технологии #Россия #Наука

Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нанометров. В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем, и Россия теперь в их числе, - написал в ТГ Сергей Собянин.

Китайские ученые разработали новый ультрафиолетовый лазер для создания микросхем Ученые из Китайской академии наук создали экспериментальный лазер, генерирующий ультрафиолетовое излучение в диапазоне 193 нм. Именно такой свет используется в фотолитографии — ключевом этапе производства современных микросхем, когда узоры схем проецируются на кремниевые пластины. Читать далее

В Москве создали уникальное оборудование для микросхем Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. «В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», - сообщил мэр Москвы Сергей Собянин. Мэр отметил, что российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом. Также отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. «Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер - мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром»,- добавил он.

В Москве создан первый в России фотолитограф Это уникальное оборудование для микросхем, которое выпускают не более десяти стран в мире. Это разработка компании-резидента особой экономической зоны "Технополис Москва". Российский фотолитограф разработан в партнёрстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере.