Томский университет запускает производство ключевых компонентов для микроэлектроники

В ТОМСКЕ ЗАПУСТИЛИ ПРОИЗВОДСТВО КОМПОНЕНТОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ На площадке Инжинирингового химико-технологического центра Томского государственного университета запустили производство особо чистого бромистого водорода и тетракис диметиламино титана. Производство этих двух соединений позволит закрыть основные потребности в них для российских предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектроники. Первые партии продукта уже прошли промышленные испытания на базе отечественных предприятий. Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основной для интегральных микросхем. Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями. За 2023–2024 годы химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства. Еще одна технология, разработанная химиками ТГУ, предназначена для синтеза соединения тетракис диметиламино титана, широко известного как TDMAT. Предшественник титана необходим для создания сложных электронных устройств. Он используется для химического осаждения пленок нитрида титана из газовой фазы. TDMAT незаменим при производстве полупроводников, помимо этого, в нем заинтересованы и другие отрасли, например, производители изотопов, оптики, конструкционных покрытий и композиционных материалов. Первые партии TDMAT уже отправлены российским предприятиям. Источник: ТАСС #времявперёд!

Производство особо чистого бромистого водорода и тетракис диметиламино титана запущено на площадке Инжинирингового химико-технологического центра ИХТЦ Томского государственного университета ТГУ . Производство этих двух соединений позволит закрыть основные потребности в них для российских предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектроники. Технология была успешно внедрена на площадке малотоннажной химии ИХТЦ. Первые партии продукта уже прошли промышленные испытания на базе отечественных предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектронных устройств и систем.

Химики ТГУ разработали и внедрили в производство технологии синтеза двух высокочистых соединений, необходимых для развития микроэлектроники. Производство особо чистого бромистого водорода и TDMAT запущено на площадке ИХТЦ ТГУ. Руководитель проекта, директор Инжинирингового центра высокочистых веществ и материалов микроэлектроники ТГУ, профессор ХФ ТГУ Виктор Сачков: — В современном мире микроэлектроника – это не просто отрасль промышленности, а фундамент, без которого невозможен технологический прогресс. К примеру, отечественные микропроцессоры, память, контроллеры – это основа для создания конкурентоспособных компьютеров, серверов, смартфонов, робототехники, медоборудования и других сложных устройств. Внедрение технологий выпуска бромистого водорода и TDMAT электронного качества будет напрямую способствовать появлению качественной российской электроники и ее импортонезависимости. Подробнее —————————

В ТОМСКЕ ЗАПУСТИЛИ ПРОИЗВОДСТВО КОМПОНЕНТОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ На площадке Инжинирингового химико-технологического центра Томского государственного университета запустили производство особо чистого бромистого водорода и тетракис диметиламино титана. Производство этих двух соединений позволит закрыть основные потребности в них для российских предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектроники. Первые партии продукта уже прошли промышленные испытания на базе отечественных предприятий. Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основной для интегральных микросхем. Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями. За 2023–2024 годы химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства. Еще одна технология, разработанная химиками ТГУ, предназначена для синтеза соединения тетракис диметиламино титана, широко известного как TDMAT. Предшественник титана необходим для создания сложных электронных устройств. Он используется для химического осаждения пленок нитрида титана из газовой фазы. TDMAT незаменим при производстве полупроводников, помимо этого, в нем заинтересованы и другие отрасли, например, производители изотопов, оптики, конструкционных покрытий и композиционных материалов. Первые партии TDMAT уже отправлены российским предприятиям.

В Томске запустили производство отечественных компонентов для микроэлектроники В Томском государственном университете начали выпуск двух важных веществ для отечественной микроэлектроники: особо чистого бромистого водорода и тетракис титана. Первое соединение используется для очистки кремниевых пластин, служащих основой для микросхем. Ранее его поставляли зарубежные компании, но теперь производство полностью локализовано. Второй компонент применяется в создании полупроводников и сложных электронных устройств. Томские химики разработали собственные технологии синтеза, обеспечив технологическую независимость России в этой сфере. Первые партии продукции уже отправлены на отечественные предприятия.

Спроси что угодно — умный ИИ уже готов ответить

В Томске запустили производство отечественных компонентов для микроэлектроники В Томском государственном университете начали выпуск двух важных веществ для отечественной микроэлектроники: особо чистого бромистого водорода и тетракис титана. Первое соединение используется для очистки кремниевых пластин, служащих основой для микросхем. Ранее его поставляли зарубежные компании, но теперь производство полностью локализовано. Второй компонент применяется в создании полупроводников и сложных электронных устройств. Томские химики разработали собственные технологии синтеза, обеспечив технологическую независимость России в этой сфере. Первые партии продукции уже отправлены на отечественные предприятия.

В Томске запустили производство отечественных компонентов для микроэлектроники В Томском государственном университете начали выпуск двух важных веществ для отечественной микроэлектроники: особо чистого бромистого водорода и тетракис титана. Первое соединение используется для очистки кремниевых пластин, служащих основой для микросхем. Ранее его поставляли зарубежные компании, но теперь производство полностью локализовано. Второй компонент применяется в создании полупроводников и сложных электронных устройств. Томские химики разработали собственные технологии синтеза, обеспечив технологическую независимость России в этой сфере. Первые партии продукции уже отправлены на отечественные предприятия. Подписаться Поддержать канал бустом

В Томском госуниверситете начали выпуск двух важных веществ для отечественной микроэлектроники: особо чистого бромистого водорода и тетракис титана. Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основной для интегральных микросхем. Раньше он поставлялся зарубежными компаниями, но после введения санкций поставки были прекращены. Второй компонент тетракис необходим в создании полупроводников и сложных электронных устройств, для производства оптики и композиционных материалов. Выпуск двух упомянутых соединений позволит закрыть основные потребности в них для российских предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектроники. За 2023-2024 годы томские химики также разработали свои технологии синтеза, обеспечив независимость РФ в этой сфере. Первые партии продукции уже отправлены на отечественные предприятия.

Инжиниринговый центр при ТГУ внедрил технологии для микроэлектроники Инжиниринговый химико-технологический центр начал производство двух разработанных в Томском государственном университете химических веществ, необходимых для развития отечественной микроэлектроники – особо чистого бромистого водорода и TDMAT. Планируется, что ИХТЦ закроет основные потребности в этих продуктах у российских предприятий, сообщает «Интерфакс». «Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основой для интегральных микросхем. Первые партии продукта уже прошли промышленные испытания на базе отечественных предприятий, занимающихся выпуском компонентов для микроэлектронных устройств и систем. <…> Вторая технология предназначена для синтеза соединения тетракис диметиламино титана, широко известного как TDMAT, применяемого для химического осаждения пленок нитрида титана из газовой фазы. Его первая партия уже отправлена российским предприятиям», – отмечается в материале.

В Томске запустили производство отечественных компонентов для микроэлектроники В Томском государственном университете начали выпуск двух важных веществ для отечественной микроэлектроники: особо чистого бромистого водорода и тетракис титана. Первое соединение используется для очистки кремниевых пластин, служащих основой для микросхем. Ранее его поставляли зарубежные компании, но теперь производство полностью локализовано. Второй компонент применяется в создании полупроводников и сложных электронных устройств. Томские химики разработали собственные технологии синтеза, обеспечив технологическую независимость России в этой сфере. Первые партии продукции уже отправлены на отечественные предприятия.