Китай разработал прототип установки для EUV литографии

В Китае создан прототип передового фотолитографа работающего с экстремальным ультрафиолетовым излучением EUV Он разработан бывшими инженерами ASML через реверс инжиниринг голландских литографов Хотя установка успешно генерирует необходимое излучение она пока не может производить работающие чипы китай euv литография сканер Подробнее

По данным источников Reuters команда из Шэньчжэня завершила создание рабочего прототипа литографической установки с экстремальным ультрафиолетовым излучением EUV в начале 2025 года

Китай в тайне разработал передовой цех чипов снаряженный установками для экстремальной ультрафиолетовой литографии Пресса уже прозвала секретную лабораторию китайским Манхэттенским проектом Лаборатория расположена в Шэньчжэне и усиленно охраняется Установку прототип разработали еще в начале 2025 года и сейчас она проходит испытания Производственный цех был создан экс сотрудниками голландского ASML По словам источников Reuters именно эта команда стояла за реверс инженерингом установки для EUV литографии Китайская установка как сообщается вполне себе работает вот только до полноценного производства работоспособных чипов пока дело не дошло Тем не менее вполне себе прорыв по разным оценкам Китай сможет выйти на выпуск передовых чипов к 2028 2030 годам Мы бы не сомневались в успехе мало того что это часть грандиозного китайского нацпроекта по выходу из американских цепочек снабжения чипами так и ключевое лицо проекта Huawei Компания координируют сеть компаний и государственных НИИ по всей стране пытаясь выстроить самодостаточную полупроводниковую индустрию

Китай разработал прототип фотолитографического станка для производства передовых чипов пишет Reuters Первые рабочие микросхемы власти КНР планируют начать выпускать в 2028 году но собеседники агентства называют более вероятным сроком 2030 год Пока технологию EUV литографии освоила только нидерландская ASML Её установки стоимостью около 250 млн используют все производители современных чипов в том числе TSMC Intel и Samsung США и Нидерланды строго контролируют экспорт такого оборудования чтобы перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям

В Китае сообщили о создании собственной установки экстремальной ультрафиолетовой литографии EUV До этого страна из за санкций использовала лишь DUV оборудование позволяющее выпускать чипы не тоньше 5 нм Новая разработка созданная в лаборатории Шэньчжэня при участии инженеров Huawei и бывших специалистов ASML открывает путь к 3 2 нм техпроцессам Проект курируется на государственном уровне однако массовое производство ожидается не ранее 2028 2030 годов

Китай нанес главный удар по Западу в технологической гонке им удалось скопировать технологию литографических установок До настоящего момента ей владела ровно одна фирма планеты ASML из Нидерландов полностью подконтрольная США Литографы это принтеры которые рисуют транзисторы в современных 5 и 3нм техпроцессах по другому невозможно Однако Китаю США позволяли пользоваться лишь прошлыми поколениями литографов поэтому ИИ сфера Поднебесной изначально была в проигрышном положении Но все изменилось СМИ рассказали что спецслужбы Китая провели невероятную операцию они перевезли более сотни бывших инженеров ASML в Китай по поддельным документам И выдали им безграничные ресурсы которые сравнивают с Манхэттенским проектом Итог ветераны из ASML построили прототип передового литографа скоро он начнет печатать чипы

Китай создал первую отечественную установку для EUV литографии Reuters В перспективе данная разработка серьезно снизит зависимость Поднебесной от иностранных технологий Однако на данный момент устройство не готово к массовому производству передовых чипов Как сообщает издание Reuters Китай создал первую установку для литографии в экстремальном ультрафиолете EUV

В Китае создали передовой EUV литограф Из за санкций страна долгое время работала с установками на базе глубокой ультрафиолетовой литографии DUV оставшимися со времен официальных поставок от AMSL И хотя китайские инженеры смогли наладить на них выпуск даже чипов 5 нм класса Kirin 9030 фактически это предел технологии Теперь же стало известно что в лаборатории в Шэньчжэне была создана собственная установка экстремальной ультрафиолетовой литографии EUV что открывает путь для производства 3 и даже 2 нм чипов Проект курируется на самом верху им занимается Дин Сюэсян возглавляющий Центральную комиссию КПК по науке и технологиям а также инженеры Huawei и бывшие специалисты ASML О массовом производстве литографов речи пока не идет это случится в 2028 2030 годах К тому времени AMSL скорее всего освоит High NA EUV с ангстремной литографией Мой Компьютер

Китайский EUV литограф Манхэттенский проект КНР в противостоянии с Западом Reuters В лаборатории в Шэньчжэне китайские учёные вместе с командой бывших инженеров ASML создали то чему США годами пытались помешать машину способную производить передовые полупроводниковые чипы констатирует Reuters EUV машины лежат в основе технологической холодной войны В настоящее время эта технология монополизирована Западом Новый литограф проходит испытания а запуск производства запланирован на 2028 год Это достижение знаменует собой кульминацию шестилетней правительственной инициативы по достижению самодостаточности в производстве полупроводников что является одним из главных приоритетов Председателя Си Цзиньпина подчёркивает Reuters КРИСТАЛЛ РОСТА ранее приводил мнение Александра Галушки о том что Технологии являются центральной характеристикой экономического развития

Китай нанес главный удар по Западу в технологической гонке им удалось скопировать технологию литографических установок До настоящего момента ей владела ровно одна фирма планеты ASML из Нидерландов полностью подконтрольная США Литографы это принтеры которые рисуют транзисторы в современных 5 и 3нм техпроцессах по другому невозможно Однако Китаю США позволяли пользоваться лишь прошлыми поколениями литографов поэтому ИИ сфера Поднебесной изначально была в проигрышном положении Cпецслужбы Китая провели невероятную операцию они перевезли более сотни бывших инженеров ASML в Китай по поддельным документам и выдали им безграничные ресурсы которые сравнивают с Манхэттенским проектом Они создали сеть инженеров и учёных по всей стране привлекли бывших сотрудников ASML контрабандой доставили подсанкционные компоненты от Nikon и Canon разбирали другие станки ASML попали в судебное дело с ASML а некоторым китайцам которые приехали из другой страны даже разрешили оставить двойное гражданство Правда многие работали под выдуманными именами Итог ветераны из ASML построили прототип передового литографа скоро он начнет печатать чипы