19 сентября, 16:15

Китайский SMIC тестирует иммерсионное литографическое оборудование для производства чипов

SMIC тестирует первую суверенную DUV машину для литографии FT Китайская полупроводниковая отрасль семимильными шагами переходит от решений западных партнеров на свои собственные разработки Так SMIC один из крупнейших китайских производителей чипов приступил к тестированию первой машины для литографии в глубоком ультрафиолете DUV
DNS_Club
DNS_Club
SMIC тестирует первую суверенную DUV машину для литографии FT Китайская полупроводниковая отрасль семимильными шагами переходит от решений западных партнеров на свои собственные разработки Так SMIC один из крупнейших китайских производителей чипов приступил к тестированию первой машины для литографии в глубоком ультрафиолете DUV
Новости электроники
Новости электроники
SMIC тестирует первое китайское иммерсионное литографическое оборудование класса DUV Deep Ultraviolet Система была разработана компанией Shanghai Yuliangsheng Technology Co которая связана с SiCarrier компании Huawei Считается что эта система играет важную роль в стремлении Китая стать самодостаточным в производстве оборудования для изготовления полупроводниковых пластин Тестовая платформа SMIC от Yuliangsheng включает в себя DUV машину использующую иммерсионную литографию и как сообщается рассчитанную на технологии изготовления 28 нм класса хотя ее можно использовать для 7 нм или даже 5 нм производственных узлов с применением мультипаттернирования Оборудование Yuliangsheng в основном изготавливается из отчественных компонентов хотя некоторые детали по прежнему импортируются Компания активно работает над локализацией всей цепочки поставок Это позволит Китаю работать вне влияния экспортной политики США или Европы в этом сегменте производства микросхем Если описание инструмента от Financial Times соответствует действительности то иммерсионная система DUV от Yuliangsheng которую в настоящее время тестирует SMIC напоминает Twinscan NXT 1950i от ASML 2008 года которая была разработана для техпроцесса 32 нм за одну экспозицию Устройство оснащено оптикой с числовой апертурой 1 35 наложением 2 5 нм разрешением 38 нм и может использоваться для изготовления чипов на техпроцессе 22 нм Хотя теоретически NXT 1950i можно использовать для производства чипов по 7 нм и 5 нм техпроцессам компания ASML разработала для таких технологий производства NXT 2000i который на несколько поколений опережает NXT 1950i рынокэлектроники новостиэлектроники
42 секунды
42 секунды
FT Китай тестирует свое первое передовое оборудование для производства чипов SMIC тестирует китайскую DUV машину для литографии Оборудование создал шанхайский стартап Yuliangsheng Свое DUV оборудование станет большой победой Китая Технологии помогут обойти экспортный контроль США Раньше Китай полагался на устройства голландской ASML Доступ к DUV оборудованию ASML был ограничен США Китайская SMEE производит менее совершенные машины Доступа к лучшему оборудованию для чипов Китай не имел Большинство компонентов для Yuliangsheng сделаны в Китае Некоторые детали пока закупаются на зарубежных рынках В скором времени все детали будут производить в Китае ftsec
ОверНовости
ОверНовости
Китайская SMIC тестирует локальную DUV литографическую машину для производства чипов до 5 нм Китай продолжает развивать собственную полупроводниковую отрасль в условиях ограничений Новым шагом стало тестирование оборудования для фотолитографии местного производства SMIC проверяет DUV установку созданную шанхайским стартапом Yuliangsheng Ранее компания зависела от поставок голландской ASML но экспортные ограничения вынудили искать альтернативы Существующие санкции позволяют Китаю получать только устаревшие модели DUV оборудования На таком оборудовании SMIC уже освоила производство по нормам 7 нанометров Новая отечественная установка потенциально может обеспечить переход к более сложным техпроцессам В отчетах утверждают о возможности достижения 5 нм с помощью многократного формирования шаблонов Правда такой метод имеет серьезный недостаток крайне низкий процент годных чипов Ошибки совмещения накапливаются при многократной экспозиции что снижает выход продукции SMIC ранее уже демонстрировала готовность жертвовать процентом выхода ради технологического прогресса Высокий спрос на чипы для ИИ со стороны китайских компаний стимулирует развитие местного производства
ВЕДОМОСТИ
ВЕДОМОСТИ
Китай испытывает первые современные инструменты для производства чипов для ИИ пишет The Financial Times Крупнейший китайский производитель чипов Semiconductor Manufacturing International Corp проводит испытания первых произведенных в стране современных литографических установок Это достижение поможет КНР преодолеть американские ограничения и снизить зависимость страны от западных технологий в создании передовых процессоров ИИ До сих пор китайские производители чипов полагались на установки нидерландской компании ASML мирового лидера в области литографического оборудования Компании из КНР лишены доступа к новейшим разработкам ASML из за экспортных ограничений США Подпишитесь на Ведомости
В Китае делают шаг к собственному производству литографического оборудования Как сообщает Financial Times SMIC начала тестировать первую китайскую DUV машину Сейчас спрос на чипы в Китае высок в основном из за ИИ компаний которым нужны мощные вычислительные решения Ранее SMIC полагалась на оборудование ASML но экспортные ограничения США не позволяли масштабировать производство до передовых узлов Новая DUV машина шанхайской компании Yuliangsheng позволяет компании работать с 7 нм чипами и потенциально с 5 нм хотя эффективность выхода годных изделий при этом остаётся низкой
PRO Hi-Tech
PRO Hi-Tech
В Китае делают шаг к собственному производству литографического оборудования Как сообщает Financial Times SMIC начала тестировать первую китайскую DUV машину Сейчас спрос на чипы в Китае высок в основном из за ИИ компаний которым нужны мощные вычислительные решения Ранее SMIC полагалась на оборудование ASML но экспортные ограничения США не позволяли масштабировать производство до передовых узлов Новая DUV машина шанхайской компании Yuliangsheng позволяет компании работать с 7 нм чипами и потенциально с 5 нм хотя эффективность выхода годных изделий при этом остаётся низкой