ТГУ запустил производство высокочистого бромистого водорода для микроэлектроники

ЗАПУЩЕНО ПРОИЗВОДСТВО ВЫСОКОЧИСТОГО БРОМИСТОГО ВОДОРОДА Инжиниринговый химико технологический центр при Томском государственном университете запустил производство высокочистого бромистого водорода мощностью 650 кг ежегодно Это позволяет обеспечить стабильные поставки сверхчистого HBr на российский рынок За полтора года специалисты прошли путь от лабораторных исследований до полноценного производства обеспечив выпуск высокочистого бромистого водорода HBr с чистотой 99 999 5N Компания получила паспорт безопасности химической продукции информационно аналитического центра Безопасность веществ и материалов ФГБУ Институт стандартизации Чистота вещества играет ключевую роль Присутствие даже следовых примесей может нарушить работу оборудования или остановить производственный процесс в микроэлектронике Особым вызовом стала разработка системы аналитического контроля ранее отсутствовавшей в России Над этой задачей работала команда молодых специалистов которые на базе лаборатории физико химических методов анализа ТГУ создали и аттестовали методики определения критически важных примесей хлороводорода воды металлов и пр Применение новых подходов и мировой практики позволило обеспечить точный и надежный контроль качества продукции сказала руководитель проекта Ася Водянкина Источник ТГУ времявперёд

В Томске Инжиниринговый химико технологический центр ТГУ запустил производство сверхчистого бромистого водорода HBr с чистотой 99 999 Это вещество критично для микроэлектроники даже минимальные примеси могут нарушить работу оборудования Команда ТГУ разработала систему аналитического контроля впервые созданную в стране чтобы отслеживать примеси воде хлороводороду металлам Производственная линия рассчитана на 650 кг в год но легко масштабируется Проект закрывает потребности российской микроэлектронной отрасли и снижает зависимость от импорта особенно из Китая и Европы Это часть реализации программы развития электронной промышленности до 2030 года новости Сталевар и Ко

На мировом уровне в химтехнологиях Инжиниринговый химико технологический центр ООО ИХТЦ при Томском государственном университете запустил производство высокочистого бромистого водорода HBr с чистотой 99 999 необходимого для микроэлектроники Мощности предприятия полностью покрывают потребности российских компаний и могут быть увеличены при необходимости Производство рассчитано на 650 кг в год его можно масштабировать в зависимости от спроса Это позволит снизить зависимость от импорта прежде всего из Китая и Европы Для запуска производства была разработана и внедрена система аналитического контроля качества что ранее не имело аналогов в России Проект реализуется по заказу Минпромторга РФ для ведущих российских предприятий микроэлектроники Производство бромистого водорода часть программы по развитию отечественной сверхчистой химии Фото ИИ технологии Наука и бизнес Елена Дружинина Оставляйте бусты

Производство микроэлектроники Химия Россия В Томске начали производство HBr для микроэлектроники Понемногу вещество за веществом в России запускают производство высокочистых материалов для производства микроэлектроники Это все еще не более чем начало пути но шаг за шагом идет движение в сторону технологического суверенитета Очередной такой шаг в Томске запущено производство высокочистого бромистого водорода HBr об этом сообщает издание Tomsk Микротоннажное производство HBr запустили в инжиниринговом химико технологическом центре ИХТЦ при Томском госуниверситете с планами выпуска до 650 кг в год и возможностью масштабирования объема производства Этого должно хватить для полного обеспечения потребностей российских производителей микроэлектроники с тем чтобы они могли отказаться от импорта из Китая и Европы Чистота вещества декларируется на уровне 5N 99 999 для ее обеспечения была создана методика определения критически важных примесей разработана система аналитического контроля Качество продукта подтверждено паспортом бесзопасности химической продукции Института стандартизации В числе ожидаемых потребителей Микрон ОКБ Планета ВЗПП Микрон Ангстрем и другие Бромистый водород используют например для анизотропного травления слоев поликремния при создании затворов транзисторов метод обеспечивает высокую селективность к маске и подложке а также контролируемую скорость травления и минимальное подтравливание undercut Также может применяться для формирования глубоких структур например в MEMS устройствах HBr применяют для удаления металлических слоев в сочетании с Cl₂ например травления барьерных материалов типа Ti TiN Ta Можно говорить о преимуществах использования бромистого водорода перед Cl₂ или SF₆ В ИХТЦ занимаются и другими веществами для производства микроэлектроники в частности центр производит прекурсор TDMAT тетракис диметиламидо титан используемый в процессах тонкопленочного осаждения CVD и ALD процессах с его помощью создают например барьерные слои TiN предотвращающие диффузию меди в кремниевую подложку в межсоединениях электроды затворов транзисторов формирования адгезионных слоев До конца 2025 года здесь планируют наладить выпуск также трибромида бора с чистотой 99 99995 RUSmicro