Китайские ученые создали платформу для производства конкурентоспособных микросхем

South China Morning Post: китайские исследователи преодолели все проблемы на пути к запуску отечественного производства передовых микросхем, создав платформу источника экстремального ультрафиолетового EUV света, которая позволяет выпускать микросхемы с параметрами, конкурентоспособными на международном уровне.

Китайская пресса сообщает, что ученые страны достигли технологического уровня, который позволяет массово производить самые современные микрочипы без TSMC и других грандов индустрии. Создана платформа источника экстремального ультрафиолетового EUV света. Она позволяет выпекать микросхемы с параметрами, конкурентоспособными на международном уровне. Тем временем TSMC Taiwan Semiconductor Manufacturing Co планирует в 2028г запустить в производство чипы на 1,4-нм технологии. Компания строит 24 завода по всему миру, чтобы сохранить лидерство. Конкурировать придется с Intel и Samsung, которые на месте тоже не стоят. А теперь и с Китаем, который имеет самые амбициозные планы.

EUV-литографы компании ASML в качестве основы для источника света используют газовые лазеры CO₂. Они достаточно мощные, но при этом громоздкие и малоэффективные по сравнению с твердотельными лазерами. Твердотельные лазеры, в свою очередь, не отличаются высокой мощностью и непригодны для установки в литографы, хотя имеют колоссальные перспективы в этой области. У Китая также появились свои разработки в этой сфере, и они не хуже, чем у других.

Спроси что угодно — умный ИИ уже готов ответить

Китайские исследователи преодолели барьер, препятствующий производству передовых микросхем внутри страны, создав платформу источника экстремального ультрафиолетового EUV света, которая работает с параметрами, конкурентоспособными на международном уровне. Тем самым Китай приближается к созданию собственных EUV-литографов для производства самых передовых полупроводников, поскольку США запрещают продавать такое оборудование китайским компаниям.

Китай совершил прорыв в фотолитографии в глубоком ультрафиолете ASML, единственный в мире производитель оборудования для фотолитографии в глубоком ультрафиолете EUV , перестал с 2019 года продавать свои самые передовые модели Китаю из-за давления со стороны США. Китайские исследователи объявили, что создали собственный источник EUV-излучения на лазерной плазме для изготовления отечественных микрочипов. При этом их решение оказалось более компактным, а по техническим характеристикам не уступает международным аналогам. Таким образом, Китай сейчас в шаге от создания собственных литографических машин с источником света LPP-EUV.