SMIC успешно наладила производство 5-нм чипов без EUV, обойдя западные санкции

Китай внедряет 5-нм техпроцесс без EUV — SMIC обошла санкции с помощью чистой инженерии Портал Gizmochina со ссылкой на технического аналитика Уильяма Хо William Huo сообщает, что крупнейшему китайскому чипмейкеру SMIC все же удалось наладить производство 5-нанометровых чипов без использования экстремально-ультрафиолетовой литографии EUV . Читать далее

Китайский чипмейкер SMIC смог создать 5-нм чипы без использования новейших EUV-литографов от ASML Мой Компьютер

SMIC освоила производство 5-нм чипов без EUV-литографии от ASML Это важный шаг для Китая в условиях санкций и ограничений на доступ к передовым технологиям - Китай устроили засолку - круто, но 5нм не спасет Следи за новостями VA-PC Наш менеджер для связи

Как SMIC создала 5-нм чипы вопреки всем прогнозам Китайская компания SMIC, кажется, совершила настоящую технологическую революцию. По данным аналитика Уильяма Хо, производитель сумел наладить выпуск 5-нанометровых чипов без использования экстремальной ультрафиолетовой литографии EUV , доступ к которой Китаю перекрыли западные санкции. Вместо недоступной EUV-технологии инженеры SMIC применили старые установки глубокой ультрафиолетовой литографии DUV в сочетании со сложнейшим процессом самосовмещенного четырехкратного шаблонирования SAQP . Эта методика медленнее, дороже и подвержена большему количеству ошибок, но — работает! Результат уже можно увидеть в реальных устройствах, например, в процессоре Kirin 9000S, который стоит в смартфонах Huawei Mate 60. Годами считалось, что без EUV-литографии, которую производит исключительно голландская компания ASML, невозможно создавать чипы меньше 7 нм. Китайцы доказали обратное, выжав максимум из устаревших технологий. По слухам, SMIC уже экспериментирует, чтобы достичь порога в 3 нм. Прорыв SMIC может полностью перекроить глобальный технологический ландшафт. Если Китай действительно сможет самостоятельно производить передовые чипы, это подорвёт эффективность западных санкций и разрушит сложившуюся монополию на высокие технологии. В то же время, конкуренция может стимулировать инновации. Если SMIC действительно нашла способ обойтись без EUV для производства 5-нм чипов, это может побудить западные компании искать новые пути развития технологий, чтобы сохранить преимущество. Закон Мура, похоже, не умер — он просто переехал в Шанхай!

Аналитик утверждает, что SMIC уже создаёт 5-нанометровые пластины на тех же DUV-станках, имитируя EUV-процесс с помощью нескольких этапов печати и травления в сочетании с очень сложным процессом самонастраивающейся четырёхслойной печати SAQP . Из-за этого себестоимость и риск возникновения брака возрастают, но такой способ производства позволяет компании выпускать более современную продукцию даже в условиях санкций.