Китайская EUV-машина Huawei проходит испытания, старт производства намечен на 2025 год

Первая в Китае разработанная в стране EUV-машина, использующая технологию LDP вместо LPP от ASML, проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Опытное производство начнется в третьем квартале 2025 года, массовое производство — в 2026 году. Это знаменует собой важный шаг на пути к самодостаточности в производстве полупроводников и снижению зависимости от ASML на фоне экспортных ограничений США.

Китай в лице хуавеевского HiSilicon а осилил EUV-литографию. Это которая "глубокий ультрафиолет" и которая используется ASML для самых продвинутых чипоклепательных машин. зацените кстати топовую ASML-машину для работы с 300-мм пластинами, она на второй картинке. У литографического оборудования уже нотки стилистики Вархаммера 40000 прослеживаются, осталось только чтобы оттуда шагающие титаны выходили и силовое поле вокруг . Хуавей покажет работу данного агрегата примерно к сентябрю, тогда же и будут данные по производительности, потребляемой мощности и прочему. Сентябрь месяц волшебный и запросто может выйти так, что новинки Хуавея и Сяоми презентации также в сентябре будут уже на чипах на новой китайской литографии. Китайцы любят такие шоу-ходы, чтобы тихонько подготовиться и внезапно вывалить готовый и впечатляющий результат; бывший министр торговли США Джина Раймондо, автор тезиса "Если не продавать китайцам ничего ниже 28nm, то они в жопе, т.к. это ж китайцы, они ничего не могут придумать сами" как-то вспоминала свой исторический визит в КНР в 2023, и задавалась вопросом "как так вышло, что пока я ехала из аэропорта, меня буквально преследовали рекламные постеры Huawei про новый мобильник на чипе Kirin 7nm". Ну потому что их специально повесили по ходу следования твоего кортежа, тётя, и на английском поэтому, это ж китайская служба протокола, они мастаки на такие дела. Смешно будет, если через полгода выяснится, что Китай догнал по технонормам TSMC и вообще в итоге выстроил свою личную вертикаль импортозамещения электроники. Там тогда не просто пузырь инвестиций в цепочку ASML-TSMC-NVIDIA лопнет, там тектонические изменения на рынке будут.

Samsung получила литографический сканер для работы с технологией High-NA EUV Samsung в начале марта доставила на свой кампус в Хвасоне первую установку нового поколения для производства чипов. Компания получила оборудование EXE: 5000, которое использует технологию литографии High-NA EUV. Это усовершенствованная технология экстремальной ультрафиолетовой литографии с более высоким числом апертуры. Цена оборудования составляет примерно 500 млрд вон около $500 млн . Эксклюзивным поставщиком этих систем во всем мире является нидерландская компания ASML.

Твой личный ИИ — отвечает, объясняет, помогает

Китай работает над собственными EUV-машинами, производство намечено на 2026 год — TrendForce Несмотря на санкции американского правительства, китайская EUV-литография может быть намного ближе, чем кажется. По сообщению новостного портала TrendForce, новые литографические машины уже тестируются на заводе HUAWEI в Дунгуане. Если испытания пройдут успешно, китайские аппараты EUV, использующие технологию лазерной плазменной обработки LDP , будут запущены в пробное производство уже в третьем квартале 2025 года. Читать далее

8 марта 2025 года спокойствие в СМИ нарушил китаец Yin Sun своим твитом в сети Х: Разработанная в Китае отечественная EUV-машина, использующая технологию лазерно-индуцированной плазмы LDP — в отличие от подхода LPP, используемого ASML, — в настоящее время проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Пробное производство запланировано на третий квартал 2025 года, массовое производство — на 2026 год. В ситуации попробовал разобраться Электромозг

Первая разработанная в КНР машина для экстремальной ультрафиолетовой литографии EUV , использующая технологию LDP, проходит тестирование на объекте Huawei в Дунгуане. Пробное производство начнется в третьем квартале 2025 года, а массовое производство - в 2026 году. Это знаменует важный шаг к самообеспечению в сфере полупроводников, уменьшая зависимость от ASML на фоне экспортных ограничений США.

Фотолитография. Передовые техпроцессы. Производственное оборудование. Корея Samsung привезла свой первый литограф High-NA EUV ASML EXE:5000 Стоимость комплекта – порядка $500 млн, развернуть его собираются в кампусе Хвасонг Hwaseong . Как ожидается, ввод в действие этого степпера, позволит Samsung двинуться к покорению техпроцессов от 2нм и ниже. Тем самым Samsung вошел в новый виток гонки к ангстремам, которую запустила Intel, закупив первую в мире установку High-NA EUV. Первый контракт с ASML на поставку этого вида литографов был подписан еще в 2023 году, а на текущий момент в Intel законтрактовала у ASML в общей сложности 6 таких машин. По данным компании Intel, 2 литографа уже запущены в производстве, выпуская порядка 10 тысяч пластин в месяц. Компания отрабатывает технологию 18А, которая, как ожидается, станет серийной в конце 2025 года. Кроме того, ожидается, что Intel первой получит и следующую модель – ASML EXE:5200, которая позволит американской компании освоить техпроцесс 14A. TSMC пока что не спешит с закупками ранних моделей, компания заявила, что собирается запускать массовое производство с использованием фотолитографов High-NA лишь в 2028 году. по материалам TrendForce #HighNA #литография

Samsung получила оборудование для производства 2-нм чипов — Exynos 2600 может выйти без задержек Компания Samsung получила первую установку TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV от ASML. Оборудование доставлено на завод в Хвасоне. Это передовая система экстремальной ультрафиолетовой EUV литографии с высоким числовым апертурным отношением High-NA , предназначенная для производства 2-нм и более совершенных чипов. Читать далее