Китай анонсировал прорыв в производстве микросхем для преодоления санкций США

Китай заявил о прорыве в разработке собственного оборудования для производства микросхем, что является важным шагом в преодолении санкций США. ПОДПИШИСЬ -

Китай разработал собственный литограф для производства чипов 65 нм Китай продвигает разработку новых литографических машин для производства микросхем, стремясь снизить зависимость от зарубежных технологий на фоне санкций США. Эти машины демонстрируют заметные технологические улучшения: одна обеспечивает разрешение ниже 65 нм и точность наложения слоев менее 8 нм, другая — 110 нм и 25 нм соответственно. Однако они по-прежнему уступают литографам лидеров отрасли, таких как ASML, чья наименее продвинутая машина имеет разрешение 38 нм и точность наложения 1,3 нм.

На этой неделе стало известно, что Китай близок к созданию собственных машин для выпуска 8-нм чипов. В каталоге рекомендуемого китайскими властями оборудования для производства чипов появится новый образец, располагающий точностью межслойного совмещения 8 нм и разрешающей способностью 65 нм. Эта новость сразу же вызвала рост курса акций тех китайских компаний, которые так или иначе связаны с производством чипов.

Первоначальная реакция ресурса TrendForce на появление в правительственном каталоге китайского оборудования для выпуска чипов с точностью межслойного перекрытия 8 нм была поверхностной, как теперь даёт понять тот же источник. Продвигаемое китайскими чиновниками оборудование пригодно для выпуска чипов от силы по 55-нм технологии или более грубым, и ему далеко до зарубежных образцов, позволяющих выпускать 8-нм чипы.

Китай заявил о значительном прорыве в разработке собственного оборудования для производства микросхем, что является важным шагом в преодолении санкций США, — Bloomberg. Министерство промышленности и информационных технологий Китая MIIT сообщило, что государственным организациям рекомендуется использовать новую лазерную литографическую машину с разрешением 65 нанометров или лучше, что значительно превосходит предыдущее самое продвинутое отечественное оборудование с разрешением около 90 нанометров.

Китай создал литографические машины, которые позволяют выпускать полупроводники с техпроцессом в 65 нм или меньше По крайней мере, это следует из последних рекомендаций Министерства промышленности и информационных технологий страны. Ранее самое передовое оборудование в Китае позволяло выпускать платы с показателем всего в 90 нм. Конечно, это может выглядеть не так интересно в реалиях, где лучшие литографские машины ASML уже имеют разрешение в примерно 8 нм, а Intel готовится выпускать чипы с техпроцессом всего в 1 нм. Но скачок с 90 до 65 нм является достаточно серьёзным для страны, которой США прямо запретили поставлять передовое оборудование и полупроводники. Свои технологии производства Китай не раскрывает, поэтому и проверить публичные заявления оказывается сложно. Ещё в 2023 году одна из крупных промышленных групп страны сообщило о изготовлении машины, способной «печатать» чипы с техпроцессом всего в 28 нм. Но началось ли их производство, неизвестно до сих пор.

Китай сумел создать свои литографические машины для создания чипов. Это поможет после ввода санкций со стороны США и монополии ASML.

Китай сумел создать свои литографические машины для создания чипов. Это поможет обеспечить собственное производство после введения санкций со стороны США и монополии ASML.

Bloomberg: Китай разработал новое литографическое оборудование для производства чипов – Оборудование было нужно, чтобы преодолеть санкции США – Оно может производить чипы по технологии 65-нм и менее – Прошлые версии оборудования выпускали лишь 90-нм чипы – Литографические машины стали главным «узким местом» – США запретили поставки таких машин нидерландской ASML – При этом лучшие машины ASML могут создавать 8-нм чипы – Ранее про машину для 28-нм чипов заявила китайская SMEE – Но неизвестно, запустила ли SMEE производство этих машин

Китай разработал новое литографическое оборудование для производства чипов Министерство промышленности и информационных технологий МИИТ Китая сообщило о создании неназванными отечественными компаниями двух новых литографических машин для производства микросхем, чтобы снизить зависимость от иностранных инструментов на фоне санкций США. ⌨ Две машины представляют собой устройства глубокой ультрафиолетовой DUV литографии с использованием лазеров на фториде аргона. Первая машина работает на длине волны 193 нм, обеспечивая разрешение ниже 65 нм и точность наложения менее 8 нм. Вторая — работает на длине волны 248 нм, с разрешением 110 нм и точностью наложения 25 нм. При этом, китайские литографические машины по-прежнему уступают таким лидерам отрасли, как ASML, чья наименее продвинутая машина имеет разрешение 38 нм и точность наложения 1,3 нм.